شناسه خبر:78003
1402/10/16 13:06:44

سپهرغرب-گروه کاردانش:متخصصان یک شرکت‌ دانش‌بنیان موفق به طراحی و ساخت سامانه تمیزکننده پلاسمایی، سامانه رشد نانولوله‌های کربنی و سامانه زدایش عمیق سیلیکون با استفاده از یون‌های واکنشگر شدند.

به گزارش سپهرغرب و به نقل از مرکز ارتباطات و اطلاع‌رسانی معاونت علمی، فناوری و اقتصاد دانش‌بنیان ریاست جمهوری، مدیرعامل شرکت دانش‌بنیان «نانو رشد فناوران» مستقر در پارک علم و فناوری دانشگاه تهران گفت: پژوهشگران این مجموعه روی سامانه‌هایی کار می‌کنند که بیشتر برای آزمایشگاه‌های میکروالکترونیکی کاربرد دارد.

علی اخوان‌فراهانی ادامه داد: یکی از این محصولات سامانه رشد نانولوله‌های کربنی با استفاده از پلاسمای جریان مستقیم در فشار پایین (DC-PECVD) است. این سیستم که دارای منبع تغذیه ولتاژ بالا (برای تولید پلاسما)، پمپ‌های خلأ مکانیکی (برای ایجاد فشار پایین) و کوره‌های کوارتز (برای دمای بالا و کنترل کاملاً خودکار) است، در بسیاری از آزمایشگاه‌ها و پژوهشگاه‌های تحقیقاتی مرتبط با نانوالکترونیک و افزاره‌های نیمه‌هادی کاربرد دارد.

وی اظهار کرد: نانولوله‌های کربنی به خواص ویژه خود، کاربردهای بسیار زیادی در ساخت حسگرها و قطعات الکترونیک داشته و در قطعات انرژی و بیوالکترونیک نیز مورد توجه روزافزون هستند. هم‌اکنون امکان رشد گرافن و زدایش اکسید نیز به این سامانه افزوده شده است؛ گرافن از شاخص‌ترین مواد دوبُعدی است که می‌تواند در ساخت قطعات الکترونیکی در آینده بسیار نقش‌آفرین باشد.

این پژوهشگر بیان کرد: یکی دیگر از محصولات ما تولید سامانه زدایش عمیق سیلیکون با استفاده از یون‌های واکنشگر (DRIE) است. این سیستم شامل محفظه خلأ، پمپ‌های مکانیکی و روتز، منبع توان فرکانس رادیویی (برای ایجاد پلاسما)، شبکه تطبیق امپدانس (برای انواع مختلف گازها و مقادیر گوناگون)، کنترل‌کننده گاز ورودی(MFC) و برنامه دیجیتال و کنترل کاملاً خودکار (برای کاربر) است. این سامانه دارای یک فرآیند جدید و بهبودیافته نسبت به نمونه‌های خارجی بوده که در بسیاری از آزمایشگاه‌ها و پژوهشگاه‌های تحقیقاتی مرتبط با نانوالکترونیک و افزاره‌های نیمه‌هادی کاربرد دارد.

اخوان‌فراهانی ادامه داد: سامانه تمیزکننده پلاسمایی (Asher) برای سوزاندن کثیفی‌های روی سطح نمونه‌های میکروالکترونیک در بخش لیتوگرافی از دیگر محصولات این مجموعه است. این سامانه با کمک پلاسمای فرکانس رادیویی تولیدشده توسط منبع فرکانس رادیویی RF و استفاده از مدارات تطبیق، گاز اکسیژن موجود در محفظه را به پلاسمای اکسیژن تبدیل می‌کند.

وی بیان کرد: یون‌های اکسیژن با فوتورزیست (یک ماده غیر قابل حل است که در معرض نور، ساختار شیمیایی آن تغییر کرده و آن قسمت‌های نوردیده به ماده قابل حل تبدیل می‌شود) موجود به روی سطح نمونه ترکیب و به خاکستر تبدیل شده و آن را از روی سطح برمی‌دارد. علاوه‌بر گاز اکسیژن با کمک فلورین هم می‌توان فرآیند تمیزسازی را انجام داد. این سامانه برای خروج خاکسترهای فوتورزیست و همچنین ایجاد پلاسما نیازمند پمپ خلأ و فشاری در حدود میلی‌تور است. وجود این دستگاه در آزمایشگاه‌هایی که از فوتوزیست استفاده می‌کنند، ضروری است.

اخوان‌فراهانی تأکید کرد: فرآیند ساخت این سامانه‌ها نسبت به نمونه‌های مشابه خارجی تفاوت دارد. ازنظر قیمتی نیز بسیار مقرون‌به‌صرفه‌تر هستند؛ اکنون روند تحقیق و توسعه این سامانه‌ها انجام شده است، اما در بخش گمرک با پاره‌ای از مشکلات مواجه هستیم که امیدواریم با عنایت مسئولان این مشکلات نیز برطرف شود و گامی در صادرات این محصول برداریم.

 

شناسه خبر 78003